排ガス処理装置及び排ガス処理方法

登録番号

特許第5699022号

登録日

2015年2月20日

共有者

岩谷産業株式会社

技術概要

【課題】半導体、液晶などの製造工程から排出されるシラン系化合物を含む排ガス及びPFCsを含む排ガスを同時に分解処理する排ガス処理装置及び排ガス処理方法に係り、コンパクトであり、シリカの除去が簡単で省エネルギーの処理ができるようにした。【解決手段】筒状の電気ヒータ3により予備分解部21となる外筒側と本分解部22となる内筒側とに区画した二重筒状の分解部2を形成し、モノシランを含む排ガス及びPFCsを含む排ガスを同時に予備分解部21の一端側に導入して、予備分解部21及び本分解部22の他端側において、予備分解部21からの予備分解された予備分解ガスを反転させて本分解部に導入するとともに、添加ガスを導入して予備分解ガスに混合し、予備分解部21及び本分解部22で分解処理された処理ガスを、本分解部の一端側から放出するようにして、コンパクトでシリカの除去が簡単な省エネルギーの処理を可能とした。

図

提供方法

共有者様の製品、特許の利用

詳細説明

なし